Details der Publikation - Evaluation of water profiles at silica surfaces at 23°C, 100°C and 200°C by Zouine et al.

Evaluation of water profiles at silica surfaces at 23°C, 100°C and 200°C by Zouine et al. / Günter Schell, Claudia Bucharsky, Theo Fett ; Institute for Applied Materials

Medienart:	E-Book

Erscheinungsjahr:	2023
Erschienen:	Karlsruhe: Karlsruher Institut für Technologie (KIT) ; 2023

Reihe:	KIT scientific working papers - 209

Sprache:	Englisch

Beteiligte Personen:	Schell, Karl Günter [VerfasserIn] Bucharsky, Claudia [VerfasserIn] Fett, Theo, 1943- [VerfasserIn]
Körperschaft:	Karlsruher Institut für Technologie [Herausgebendes Organ]

Links:	Volltext [kostenfrei]

BKL:	33.68 / Oberflächen / Dünne Schichten / Grenzflächen 35.48 / Sonstige anorganische Elemente und ihre Verbindungen
Themen:	Chemische Reaktion Forschungsbericht Oberfläche Quarzglas Quellung Siliciumdioxid Wasser

Anmerkungen:	Literaturverzeichnis: Seite 7

Umfang:	1 Online-Ressource (14 Seiten, 497,82 KB) ; Diagramme

doi:	10.5445/IR/1000156999

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Förderinstitution / Projekttitel:

PPN (Katalog-ID):	1843179105

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Evaluation of water profiles at silica surfaces at 23°C, 100°C and 200°C by Zouine et al. / Günter Schell, Claudia Bucharsky, Theo Fett ; Institute for Applied Materials

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